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加拿大渥太華大學領銜的一個國際研究團隊在超薄磁體的研發(fā)上取得突破。他們展示了一種全新的材料組合，可增強僅有幾層原子厚度的材料中的磁性，這使超薄磁體向現實應用邁出了關鍵一步。相關成果發(fā)表在最新一期《物理進展報告》期刊上。

傳統磁體體積龐大，難以在尖端電子產品中實現小型化。而超薄磁體僅有幾層原子厚度，是實現更小、更強大設備的理想材料。然而，這類磁體普遍存在一個致命缺陷，即它們通常只能在極低溫度下工作，不適用于日常應用。

為了解決這一問題，研究團隊將超薄磁體與拓撲絕緣體材料結合使用。當這兩種材料疊加在一起時，磁強度顯著提升，在較高溫度下也可保持穩(wěn)定。研究人員表示，這就像給磁體加了個“助推器”，通過與合適的材料配對，能在不破壞磁體的情況下增強其性能，這可能會徹底改變未來電子設備的構造方式。

這一研究為設計更強、更穩(wěn)定的納米尺度磁體提供了新路徑。下一步，研究團隊將嘗試不同的材料組合，力爭實現磁體在室溫下運行這一關鍵目標，推動其在計算機、數據存儲及量子計算等前沿技術中的廣泛應用。